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Bonjour,

La métallisation consiste à recouvrir les échantillons d'une couche fine de métal pour les rendre conducteurs s'ils ne le sont pas assez (parfois après avoir déposé une couche de carbone).

Dans le cas d'échantillons isolants, les charges apportées par le faisceau étant mal évacuées, la surface acquiert un potentiel négatif (accumulation de charges de surface) et la tension effective peut devenir nettement inférieure à la tension nominale (par déformation du faisceau d'électrons, d'où modification de son énergie effective). On peut toutefois le détecter en surveillant la valeur de coupure du fond continu vers les hautes énergies.

2 types de métallisation sont pratiquées :

- pulvérisation cathodique (dépôt sur l'échantillon d'atomes arrachés à un morceau de métal par de l'argon ionisé dans une enceinte à vide partiel)

- évatoration (dépôt sur l'échantillon d'atomes évaporés d'un métal d'un filament chauffé dans un vide poussé)

Donc pour répondre à ta question et arrêter de m'étaler sur le sujet, il n'y a pas d'épaisseur à respecter. Il suffit que la surface soit suffisamment recouverte pour être bien conductrice. Par contre, plus ta couche sera épaisse, plus la structure de surface de l'échantillon sera masquée et paraîtra artificielle. En général, on obtient une couche de 10 à 20 nm d'épaisseur.

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